[기초반도체공정|4.2] #wet etching #dry etching #ion milling #RIE #Bosch process

(18:42)

[기초반도체공학|4.2] MOS : #파라미터들 #surface potential #threshold voltage #work function difference

(18:56)

[기초반도체공정|2.1] #oxidation #gate insulator #SiO2 #dangling bond #forming gas annealing

(18:50)

[기초반도체공정|5.2] #sheet resistance #four point probe #Kelvin probe #secondary ion mass spectroscopy

(16:57)

[기초반도체공정|6.4] #deposition #ALD

(11:46)

[기초반도체공정|6.2] #deposition #sputtering #DC #RF #reactive ion #magnetron

(23:52)

[물리전자공학|4.2] #intrinsic semiconductor #불순물이 없는 반도체 #intrinsic 캐리어 농도 계산 #intrinsic 페르미레벨의 위치

(9:47)

[기초반도체공정|2.2] #oxidation kinetics #Deal-Grove model #oxidation 공정의 수학적 모델 #모델링은 어렵지 않아

(28:38)

[기초반도체공정|7.1] #metallization #interconnection #junction spike #electromigration #Damascene

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[기초반도체공정|4.1] #etching #etch rate #profile #isotropic #anisotropic #selectivity #bias #uniformity

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'삼성전자'가 참 쉽게 알려주는 '반도체 8대공정' | 반도체 백과사전 EP.6 반도체 공정 편

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비전공자를 위한 반도체 공정 / 제일 쉬운 설명! /삼성전자 SK하이닉스 (Eng sub)

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[기초반도체공정|3.2] #photolithography #light source #resolution #critical dimension #DOF

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