【高品質薄膜形成を実現する、プラズマ応用による新しい薄膜作成技術】圧力勾配式スパッタリング、プラズマクラッキング蒸発源、CCP型イオン源、高周波誘導加熱型超高温加熱システム、等【ケニックス株式会社】

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株式会社プラズマイオンアシスト「生産性向上 コスト低減を実現するDLC連続成膜装置」

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スパッタリングによる高機能薄膜合成

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ケニックス株式会社 圧力勾配式スパッタ装置

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「超高真空スパッタ装置を用いたスピントロニクス素子用薄膜の作製」

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新価値創造NAVI－株式会社プラズマイオンアシスト　超硬合金の表面改質「低温窒素プラズマイオン処理」 オンリーワンのDLCコーティング「PIA技術」

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「高周波誘導加熱CVD装置によるpoly Siとepipoly Siの成膜」

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VESTA を使用して六方晶窒化ホウ素 (hBN) 単層をモデル化する方法 [チュートリアル]

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VESTA を使用してグラフェン単層を作成する方法 [チュートリアル]

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大気圧プラズマ表面処理装置

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つながる世界 ～銅が変える未来～

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「原子層堆積（ALD)技術による薄膜形成」

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Utilizing the plasma to generate electricity!

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【知っておきたい】半導体製造の核心を握る“ある装置“とは？

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【WLP】最適化をめざす洗浄技術 - 実用化に近づく超臨界流体技術

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固体、液体、気体のどれでもないプラズマを発生させる装置作ってみた結果・・・【真似禁止】 / 米村でんじろう[公式]/science experiments

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高度な薄膜技術で全固体電池の実用化に挑む！

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プラズマでドライの表面改質！親水・洗浄・接着強化・分散に：プレゼン動画

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プラズマ表面処理および低誘電フィルムへのスパッタリング加工について河村産業株式会社　岡誠吾 氏

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スパッタリング

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NECS'T（スパッタリング式薄膜成膜装置）｜株式会社ニクニ

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PVD・スパッタリングを10分で解説【半導体プロセス解説シリーズ】

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DCスパッタ蒸着装置のプラズマ発生

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５分でわかるササクラの蒸発濃縮装置

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【1分解説】世界最高性能の窒化ガリウム圧電薄膜をRFスパッタ法で作製【産総研公式】

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「スパッタリング法を用いた高品質窒化物半導体素子の製造方法」　東京大学　生産技術研究所　教授　藤岡 洋

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頑固な汚れをきれいに除去、リフレクリン！！～安全・輝く・密着・持続～使用例　株式会社ネオスター

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スパッタリング装置3

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